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曝光

發(fā)布時(shí)間：2014-07-27

曝光：用紫外光（UV）通過預(yù)先制作好的電極圖形掩模版

照射光刻膠表面， 使被照光刻膠層發(fā)生反應(yīng)，在涂有光刻膠

的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對光刻膠進(jìn)行選擇性